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磁控离子溅射镀膜仪是一种利用磁控溅射技术在基材表面沉积薄膜的设备。它通常用于制造光学薄膜、半导体材料、硬质涂层等。其工作原理是通过在真空环境中使用高能离子轰击靶材，导致靶材的原子或分子溅射出来并沉积到基材表面。 磁控离子溅射镀膜仪广泛应用于电子、光学、装饰等领域，这种设备的关键技术包括： - 磁控溅射：通过外加磁场使电子在靶材周围形成螺旋轨迹，增强电子与气体原子的碰撞，进而提高溅射效率。
- 离子源：通常使用氩气等惰性气体，在电场作用下将气体电离形成离子。
- 溅射靶材：通常是金属或合金材料，靶材的选择依据目标薄膜的成分。
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发表于 2025-9-11 09:51:05
