离子溅射仪喷金原理

鑫隆机械

离子溅射仪喷金原理是利用高能粒子轰击金属靶材，使金属原子脱离靶材表面并沉积在基底材料上形成薄膜，具体过程如下：

• 真空环境准备：离子溅射仪需在高度真空环境中操作，通常真空度达到10-1至10-2托（Torr），以减少背景气体对溅射过程的影响，保证薄膜质量。
• 辉光放电产生：在真空室内设置靶材（阴极）和基底（阳极），两电极间施加高压，使真空室内的少量气体分子电离形成等离子体，产生辉光放电。
• 离子轰击与溅射：在辉光放电条件下，等离子体中的正离子被加速并轰击靶材表面。当正离子能量足够高时，可克服靶材表面原子的结合能，使金属原子脱离靶材表面进入真空空间。
• 薄膜沉积：溅射出的金属原子向四周扩散，部分到达基底表面沉积下来，逐渐形成连续的金属薄膜。通过调整工作参数（如气压、功率等）可精确控制薄膜的厚度与质量。
  
  

该技术因溅射粒子方向随机分布，使薄膜在基底上覆盖均匀，且粒子能量较高，形成的薄膜与基底结合力强，适用于半导体制造、光学器件加工及纳米材料研究等领域。

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