国内等离子去胶机品牌哪个好？推荐品牌厂家华仪行CIF

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　　等离子去胶机是一种利用等离子体技术对材料表面进行处理的设备。其核心原理是通过电场使气体分子离子化，形成等离子体。等离子体中含有大量的活性粒子(如离子、电子、自由基等)，这些粒子能够有效地与材料表面发生反应，去除表面的污染物、胶水残留物或有机物。

　　国内等离子去胶机品牌哪个好？

　　华仪行科技（网址：http://www.cif-china.com/，电话：010-63752026，400-6505-735）推出的在微电子、半导体、新能源、线路板、LED、微流控、光电太阳能、生物医学等领域，为客户提供清洗、去胶、刻蚀、涂层等方面仪器装备和应用工艺解决方案。

华仪行等离子去胶机特点：

　　◆7寸彩色触摸屏互动操作界面，自动控制监测工艺参数状态，20个配方程序，工艺数据可存储追溯。

　　◆PLC工控机控制整个去胶过程，手动、自动两种工作模式。

　　◆石英真空舱，全真空管路系统采用316不锈钢材质，耐腐蚀无污染。

　　◆可选用石英舟，更适合晶元硅片去胶应用。

　　◆采用花洒式多孔道进气方式，改变单孔进气不均匀问题。

　　◆采用防腐数字流量计，实现对气体输入精准控制。标配双路气体输送系统，可选多气路气体输送系统，气体分配均匀。可输入氧气、氩气、氮气、氢气或混合气等气体。

　　◆HEPA高效过滤，气体返填吹扫，防止二次污染。

　　◆处理高效均匀，效率高，工艺重复性好。

　　◆样品处理温度低，无热损伤和热氧化。

　　◆安全保护，舱门打开，自动关闭电源，机器运行、停止提示。


　　工作原理

　　等离子体生成：设备通过高频电源将气体(通常是空气、氮气、氧气或氩气等)离子化，形成等离子体。

　　表面清洁：等离子体中的活性粒子与材料表面的污染物发生反应，打破污染物的化学键，去除杂质。特别对于胶水和有机物，等离子体能将其氧化、分解或者使其变得更加容易清理。

　　表面活化：除去杂质后，等离子体还能够改变材料表面的化学性质，提高其附着力，为后续的粘接、涂覆等操作提供更好的表面质量。

　　应用领域

　　电子行业：用于清洁电路板、半导体材料的表面，去除焊接过程中残留的焊料和胶水。

　　汽车行业：清洁车身零件，去除胶水和油污，改善喷漆和粘接效果。

　　**器械：去除器械表面的污染物，保证器械的卫生和品质。

　　包装行业：清洁塑料、纸张等表面，增加粘接性，尤其是在包装标签粘贴等操作中非常重要。

　　优点

　　高效性：能够快速处理表面污染，处理速度较传统方法更快。

　　环保：不需要使用化学溶剂，减少了对环境的污染。

　　精确性：可以精确控制处理的深度和区域，避免对材料本身造成损伤。

　　无损性：适用于精密设备或材料，不会对其结构产生负面影响。