大米外观品质检测仪原理
一、光学成像系统：获取高质量大米图像[*]光源设计
[*]采用环形LED光源或漫反射光源，提供均匀、无阴影的照明环境，避免反光干扰。
[*]特定波长（如近红外光）可穿透米粒表面，辅助检测内部缺陷（如裂纹、黄粒米）。
[*]工业相机与镜头
[*]使用高分辨率CCD/CMOS相机（如500万像素以上），捕捉米粒的细微特征。
[*]搭配微距镜头或远心镜头，确保图像畸变小、景深大，适应不同大小米粒的检测。
[*]背景板与传送装置
[*]黑色或蓝色背景板增强米粒与背景的对比度，便于图像分割。
[*]振动盘或传送带使米粒单层分布，避免重叠，提高检测效率。
二、图像预处理：优化数据质量
[*]去噪与增强
[*]通过中值滤波或高斯滤波消除图像噪声（如灰尘、划痕干扰）。
[*]使用直方图均衡化或自适应对比度增强提升米粒与背景的区分度。
[*]图像分割
[*]阈值分割法：根据灰度值差异分离米粒与背景（如Otsu算法）。
[*]边缘检测算法（如Canny、Sobel）：精准定位米粒轮廓，处理粘连米粒。
[*]分水岭算法：解决重叠米粒的分割问题，确保单粒分析准确性。
三、特征提取与量化分析
[*]形态学特征
[*]粒型分析：计算长宽比、面积、周长、圆度等参数，判断米粒形状（长粒型、圆粒型）。
[*]碎米检测：通过面积阈值筛选碎米（通常面积<正常米粒的1/2）。
[*]垩白度：统计米粒腹部白色不透明区域的面积占比，评估垩白程度。
[*]颜色特征
[*]RGB/HSV色彩空间转换：提取米粒颜色均值、标准差，区分黄粒米、霉变米。
[*]色差仪校准：结合标准色卡（如Lab*色空间），量化颜色偏差（ΔE值）。
[*]缺陷识别
[*]裂纹检测：利用Gabor滤波或纹理分析识别米粒表面裂纹特征。
[*]病斑识别：通过支持向量机（SVM）或深度学习模型（如CNN）分类病斑、霉斑等缺陷。
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