氧化铝抛光液配方
氧化铝抛光液是一种用于氧化铝材料表面抛光的重要介质，其配方通常包含以下关键成分及作用：1.氧化铝磨料：作为抛光的核心成分，一般选用粒径在0.1-5微米的α-氧化铝或γ-氧化铝粉末。α-氧化铝硬度高、耐磨性强，适合粗抛；γ-氧化铝粒径均匀、分散性好，多用于精抛，其含量通常占配方的10%-30%。
2.分散剂：为防止氧化铝颗粒团聚，需添加聚丙烯酸、六偏磷酸钠等分散剂，通过静电排斥或空间位阻作用使磨料均匀分散，用量约为1%-5%。
3.pH调节剂：常用氢氧化钠、柠檬酸等，将抛光液pH值控制在8-11的弱碱性范围，以优化分散效果和抛光效率，添加量一般不超过5%。
4.去离子水：作为溶剂，占配方的60%-80%，需确保纯度以避免杂质影响抛光质量。
5.辅助添加剂：根据需求可加入缓蚀剂（如苯并三氮唑）防止基底腐蚀，或添加表面活性剂（如十二烷基苯磺酸钠）改善润湿性，用量通常在0.1%-2%。
典型配方示例：
1.氧化铝（粒径1微米）：20%
2.聚丙烯酸钠分散剂：2%
3.氢氧化钠（调节pH至10）：1%
4.去离子水：77%
该配方可根据抛光精度要求调整磨料粒径和成分比例，粗抛时可提高磨料含量至30%，精抛则降低至15%并选用更细粒径的磨料。
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