光刻机是什么东西？
光刻机是半导体制造领域中的核心设备，用于将设计图案精确地转移到硅片上。以下是对光刻机的详细介绍：工作原理：
光刻机利用紫外光通过包含目标图案信息的掩模版照射到基底表面，使基底表面的光刻胶发生化学反应。被光线照射到的光刻胶部分会发生反应，在显影后与未被照到的区域产生不同的效果，从而形成所需的电路图形。
主要分类：
按用途分：有用于生产芯片、用于封装和用于LED制造等类型。
按光源分：可分为紫外光源（UV）、深紫外光源(DUV)、极紫外光源（EUV）光刻机。极紫外光源波长更短，能实现更高的分辨率和更小的制程。
按操作方式分：包括接触式光刻、直写式光刻、投影式光刻等。其中投影式光刻又分为扫描投影光刻、步进重复投影光刻和扫描步进投影光刻等。
结构组成：
主要由光源系统、光学系统、投影系统、对准系统、机械系统等部分组成。光源系统负责产生高强度、高稳定性的激光光束；光学系统将激光光束精准聚焦于硅片之上；投影系统将光罩上的精细图形精确投影至硅片之上；对准系统确保光罩与硅片之间的精确对齐；机械系统则提供稳固的结构支撑和精确的运动控制。
光刻机作为半导体制造的关键设备，其工作原理基于光刻胶的光化学反应，通过不同分类和精密结构组件协同工作，实现高精度的图案转移，对集成电路的发展至关重要。
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